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एचएफई 7200 3एम नोवेक 7200 की जगह लेता है

HFE 7200 NOVEC प्रतिस्थापन
स्वरूप एवं गुण: रंगहीन पारदर्शी तरल
कैस नं: 163702-06-5
ओडीपी:0
रासायनिक नाम: पेरफ्लूरोइसोब्यूटाइल एथिल ईथर / एथिल पेरफ्लूरोइसोब्यूटाइल ईथर2-(एथॉक्सीडिफ्लोरोमिथाइल)-1,1,1,2,3,3,3-हेप्टाफ्लोरोप्रोपेन / प्रोपेन, 2-(डिफ्लूरोएथॉक्सिमिथाइल)-हेप्टाफ्लोरो- / 1,1,2,3,3,3- हेक्साफ्लोरो-1-मेथॉक्सी-2-(ट्राइफ्लोरोमिथाइल)प्रोपेन

विवरण

हाइड्रोफ्लोरोथर एचएफई 7200 क्या है? फ़ोन:+086-592-5803997

हाइड्रोफ्लोरोएथर एचएफई 7200आधुनिक उच्च तकनीक और सटीक उद्योगों की कठोर मांगों को पूरा करने के लिए इंजीनियर किया गया एक उन्नत हाइड्रोफ्लोरोथर आधारित विलायक है। असाधारण सामग्री अनुकूलता, तेजी से वाष्पीकरण, शून्य अवशेष और गैर ज्वलनशील गुणों के अपने अद्वितीय संयोजन के साथ, एचएफई 7200 विशेष अनुप्रयोगों के व्यापक स्पेक्ट्रम में एक विश्वसनीय समाधान बन गया है। सेमीकंडक्टर निर्माण और ऑप्टिकल सिस्टम की सफाई से लेकर विमानन, चिकित्सा उपकरण रखरखाव और यहां तक ​​कि कॉस्मेटिक फॉर्मूलेशन तक, यह विलायक लगातार प्रदर्शन प्रदान करता है जहां सुरक्षा, विश्वसनीयता और पर्यावरणीय जिम्मेदारी सर्वोपरि है। इसकी भूमिका सफाई से भी आगे तक फैली हुई है, जो गर्मी हस्तांतरण द्रव, स्नेहक और कोटिंग्स के लिए एक वाहक और पुराने सॉल्वैंट्स के लिए एक स्थायी विकल्प के रूप में काम करती है, जो इसे दुनिया भर में नवाचार संचालित क्षेत्रों में एक अनिवार्य उपकरण बनाती है।

3m novec 7200
एचएफई 7200 के मुख्य लाभ फ़ोन:+086-592-5803997

1. कम सतह तनाव; कम वाष्पीकरण क्षमता;

2. उत्कृष्ट सामग्री अनुकूलता; मध्यम घुलनशीलता;

3. उत्कृष्ट विद्युत इन्सुलेशन प्रदर्शन;

4. उत्कृष्ट तापीय चालकता, तापीय स्थिरता और रासायनिक स्थिरता;

5. कम चिपचिपापन, कम तापमान पर चिपचिपाहट में थोड़ा बदलाव;

6. सुखाएं, नमी हटाएं, पानी के कोई निशान न छोड़ें;

7. तरल को आसुत और पुनर्जीवित किया जा सकता है, और बार-बार उपयोग के माध्यम से लागत को कम किया जा सकता है;

8. पर्यावरणीय बोझ छोटा है, और ODP मान 0 है; उच्च सुरक्षा और कोई फ्लैश प्वाइंट एक अच्छा कार्य वातावरण सुनिश्चित नहीं कर सकता है;

9. प्लास्टिक को नुकसान पहुंचाना आसान नहीं;

10. सामान्य दबाव पर सुविधाजनक और सुरक्षित भंडारण और परिवहन: यह सामान्य तापमान पर तरल होता है, और इसे सामान्य सामान के रूप में ले जाया जाता है, जो भरने, परिवहन और भंडारण के लिए सुविधाजनक है

एचएफई 7200 के प्रमुख अनुप्रयोग फ़ोन:+086-592-5803997

 

1. सेमीकंडक्टर नक़्क़ाशी उपकरण की गीली सफाई; लिक्विड क्रिस्टल और हार्ड डिस्क घटकों की सफाई
एचएफई 7200 का उपयोग सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए उन्नत गीली सफाई प्रक्रियाओं में बड़े पैमाने पर किया जाता है, विशेष रूप से वेफर्स और चैम्बर घटकों से पोस्ट-ईच अवशेष हटाने में। इसकी असाधारण शुद्धता, कम सतह तनाव और तेजी से वाष्पीकरण आयनिक या कण संदूषक छोड़े बिना पूरी तरह से सफाई सुनिश्चित करता है। डिस्प्ले और डेटा स्टोरेज उद्योगों में, यह नाजुक लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले (एलसीडी) पैनल और हार्ड डिस्क ड्राइव (एचडीडी) घटकों की सफाई, तेल, कणों और कार्बनिक अवशेषों को खत्म करते हुए ऑप्टिकल स्पष्टता और यांत्रिक परिशुद्धता को संरक्षित करने के लिए समान रूप से प्रभावी है।

 

2. लेजर उपकरण की सफाई और ऑप्टिकल लेंस की सफाई
अपने गैर-संक्षारक और अवशेष-मुक्त गुणों के कारण, एचएफई 7200 उच्च-प्रदर्शन वाले ऑप्टिकल सिस्टम को बनाए रखने के लिए आदर्श है। यह एंटी-रिफ्लेक्टिव या विशेष कोटिंग्स को नुकसान पहुंचाए बिना लेजर ऑप्टिक्स, लेंस, दर्पण और सेंसर से धूल, उंगलियों के निशान और कोटिंग्स को सुरक्षित रूप से हटा देता है। इसकी तेजी से सूखने वाली प्रकृति धारियाँ बनने से रोकती है, लिथोग्राफी, लेजर कटिंग, मेडिकल इमेजिंग और वैज्ञानिक उपकरण जैसे महत्वपूर्ण अनुप्रयोगों में इष्टतम प्रकाश संचरण और सिस्टम सटीकता सुनिश्चित करती है।

 

3. परिशुद्ध इलेक्ट्रॉनिक घटकों की सफाई
एचएफई 7200 मुद्रित सर्किट बोर्ड (पीसीबी), कनेक्टर, रिले और माइक्रोइलेक्ट्रोमैकेनिकल सिस्टम (एमईएमएस) सहित संवेदनशील इलेक्ट्रॉनिक असेंबली से डीग्रीजिंग और फ्लक्स हटाने के लिए अत्यधिक विश्वसनीय विलायक के रूप में कार्य करता है। इसकी कम विषाक्तता और बेहतर सामग्री अनुकूलता प्लास्टिक, इलास्टोमर्स और धातुओं पर सुरक्षित उपयोग की अनुमति देती है, उच्च ढांकता हुआ विश्वसनीयता सुनिश्चित करते हुए सूजन, दरार या विद्युत क्षरण को रोकती है।

 

4. विमानन और चिकित्सा क्षेत्र (मेडिकल लेंस की सफाई, विशेष संवेदनशील सामग्री)
विमानन में, एचएफई 7200 का उपयोग एवियोनिक्स, नेविगेशन सिस्टम और संवेदनशील मिश्रित सामग्रियों को उनके संरचनात्मक या विद्युत गुणों को प्रभावित किए बिना साफ करने के लिए किया जाता है। चिकित्सा उपकरण निर्माण और रखरखाव में, इसका उपयोग एंडोस्कोप लेंस, सर्जिकल टूलींग, डायग्नोस्टिक सेंसर और अन्य जैव-संगत घटकों की सफाई के लिए किया जाता है, जहां बाँझपन, गैर-प्रतिक्रियाशीलता और शून्य अवशेष सर्वोपरि हैं।

 

5. सौंदर्य और प्रसाधन सामग्री अनुप्रयोग (मेकअप/मेकअप रिमूवर, चेहरे के मास्क)
कॉस्मेटिक फॉर्मूलेशन में, एचएफई 7200 लंबे समय तक पहनने वाले मेकअप, वॉटरप्रूफ मेकअप रिमूवर और शीट मास्क जैसे उत्पादों में एक अस्थिर वाहक या विलायक के रूप में कार्य करता है। इसकी कोमल, गैर-परेशान करने वाली विशेषताएं और तेजी से वाष्पीकरण चिकना अवशेष छोड़े बिना सक्रिय अवयवों को समान रूप से वितरित करने में मदद करता है, जिससे उपयोगकर्ता अनुभव और उत्पाद स्थिरता में वृद्धि होती है।

 

6. वाष्प कम करने के लिए सफाई और धुलाई एजेंट
एचएफई 7200 धातु, सिरेमिक और पॉलिमर भागों से तेल, ग्रीस और मोम हटाने के लिए बंद लूप वाष्प डीग्रीजिंग सिस्टम में एक पसंदीदा विलायक है। इसका कम क्वथनांक और उच्च स्थिरता कुशल संघनन और पुनर्प्राप्ति की अनुमति देती है, जिससे औद्योगिक श्रेणी की सफाई प्राप्त करते समय विलायक की खपत और पर्यावरणीय प्रभाव कम हो जाता है।

 

7. स्नेहक वाहक
विशेष स्नेहक और एंटी-सीज़ यौगिकों में एक वाहक तरल पदार्थ के रूप में, एचएफई 7200 जटिल यांत्रिक असेंबलियों में चिकनाई वाले कणों या एडिटिव्स के समान अनुप्रयोग की सुविधा प्रदान करता है। यह लगाने के बाद तेजी से वाष्पित हो जाता है, धूल को आकर्षित किए बिना या सहनशीलता में हस्तक्षेप किए बिना एक समान, पतली चिकनाई वाली फिल्म छोड़ जाता है।

 

8. विशिष्ट विलायक, फैलाव माध्यम, प्रतिक्रिया माध्यम और निष्कर्षण विलायक
एचएफई 7200 को नैनोमटेरियल को फैलाने, नियंत्रित रासायनिक प्रतिक्रियाओं का संचालन करने, या संवेदनशील यौगिकों को निकालने के लिए एक अक्रिय माध्यम के रूप में अनुसंधान एवं विकास और उच्च मूल्य वाली रासायनिक प्रक्रियाओं में नियोजित किया जाता है। इसकी रासायनिक स्थिरता, गैर-ध्रुवीयता और कम प्रतिक्रियाशीलता इसे उन्नत सामग्रियों, फार्मास्यूटिकल्स और बढ़िया रसायनों को संभालने के लिए उपयुक्त बनाती है।

 

9. सीएफसी, एचसीएफसी, एचएफसी और पीएफसी के लिए प्रतिस्थापन
ओजोन को कम करने वाले और उच्च {{1}वैश्विक तापमान को बढ़ाने वाले (जीडब्ल्यूपी) सॉल्वैंट्स के लिए एक पर्यावरणीय रूप से जिम्मेदार विकल्प के रूप में, एचएफई 7200 शून्य ओजोन रिक्तीकरण क्षमता (ओडीपी) और काफी कम जीडब्ल्यूपी के साथ तुलनीय या बेहतर प्रदर्शन प्रदान करता है। यह मॉन्ट्रियल और क्योटो प्रोटोकॉल जैसे अंतरराष्ट्रीय पर्यावरण नियमों के अनुपालन का समर्थन करता है।

 

10. ऊष्मा स्थानांतरण द्रव
एचएफई 7200 का उपयोग इलेक्ट्रॉनिक्स, लेजर सिस्टम और प्रयोगशाला उपकरणों के लिए एकल चरण या दो चरण शीतलन प्रणाली में किया जाता है। इसकी थर्मल स्थिरता, गैर-ज्वलनशीलता और ढांकता हुआ गुण प्रत्यक्ष या अप्रत्यक्ष शीतलन अनुप्रयोगों में कुशल और सुरक्षित गर्मी अपव्यय को सक्षम करते हैं, जिसमें उच्च प्रदर्शन कंप्यूटिंग और पावर इलेक्ट्रॉनिक्स के लिए विसर्जन शीतलन भी शामिल है।

एचएफई 7200 डेटा शीट फ़ोन:+086-592-5803997

रूप और गुण

रंगहीन पारदर्शी तरल

गंध

बिना गंध

1atm पर क्वथनांक

156-160 डिग्री

हिमांक

-84.9 डिग्री

तरल का घनत्व (25 डिग्री)

1.810 ग्राम·एमएल-1

फ़्लैश प्वाइंट

नहीं

ढांकता हुआ नुकसान (10 मेगाहर्ट्ज)

0.00418

मात्रा प्रतिरोधकता

1.579×1011 Ω·मिमी से अधिक या उसके बराबर

अपवर्तनांक

1.308

आयतन विस्तार का गुणांक (20-80 डिग्री)

5.420×10-3

गतिज श्यानता (25 डिग्री)

3.05 mm2·s-1

विशिष्ट ऊष्मा

1.151 J·g-1·K-1

ऊष्मा चालकता गुणांक(25 डिग्री)

0.0656W∙m-1∙K-1

सतह तनाव

17.51 ​​एमएन·एम-1

ढांकता हुआ ताकत (2.5 मिमी)

>50.4 के.वी

ढांकता हुआ स्थिरांक (1 मेगाहर्ट्ज)

4.75

ओ.डी.पी

0

जीडब्ल्यूपी

180

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PERC

 

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