डेटा सेंटर इमर्शन कूलिंग एचएफई 7100 सॉल्वेंट फ़ोन:+086-592-5803997
जैसे-जैसे वैश्विक डेटा खपत में वृद्धि हो रही है और कृत्रिम बुद्धिमत्ता कार्यभार आदर्श बन गया है, डेटा केंद्रों को एक अभूतपूर्व थर्मल चुनौती का सामना करना पड़ रहा है। पारंपरिक वायु और जल शीतलन अपनी भौतिक सीमाओं को पार कर रहे हैं, आधुनिक उच्च प्रदर्शन कंप्यूटिंग (एचपीसी), जीपीयू क्लस्टर और क्रिप्टोकुरेंसी खनन रिग की गर्मी घनत्व को प्रबंधित करने के लिए संघर्ष कर रहे हैं। डेटा सेंटर विसर्जन कूलिंग दर्ज करें - एक क्रांतिकारी दृष्टिकोण जहां सर्वर घटकों को सीधे गैर-प्रवाहकीय तरल पदार्थ में डुबोया जाता है। इस तकनीक के लिए, ढांकता हुआ तरल पदार्थ का चुनाव सर्वोपरि है। जबकि 3एम नोवेक 7100 (अक्सर नोवेक एचएफई 7100 या 3एम एचएफई 7100 के रूप में जाना जाता है) एक ऐतिहासिक नेता रहा है, आज के ऑपरेटरों के पास एक शक्तिशाली, समतुल्य और लागत प्रभावी विकल्प है: एचएफई 7100।
कैस नं: 163702-08-7ओडीपी:0
एचएफई 7100 क्या है और यह विसर्जन शीतलन के लिए उपयुक्त क्यों है?
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एचएफई 7100 एक हाइड्रोफ्लोरोईथर (एचएफई)-आधारित इंजीनियर्ड तरल पदार्थ है। यह एक रंगहीन, गैर ज्वलनशील, गैर संक्षारक तरल है जिसमें असाधारण ढांकता हुआ गुण और कम ग्लोबल वार्मिंग क्षमता (जीडब्ल्यूपी) है। ये विशेषताएँ इसे एकल चरण और दो चरण डेटा सेंटर विसर्जन शीतलन प्रणाली के लिए विशिष्ट रूप से उपयुक्त बनाती हैं।
डेटा केंद्रों के लिए मुख्य लाभ:
सुपीरियर ढांकता हुआ गुण:एक उत्कृष्ट ढांकता हुआ तरल पदार्थ के रूप में, एचएफई 7100 बिजली का संचालन नहीं करता है, जिससे इलेक्ट्रॉनिक घटकों पर संचालित लाइव के सुरक्षित, प्रत्यक्ष विसर्जन की अनुमति मिलती है। यह शॉर्ट सर्किट के जोखिम के बिना अधिकतम गर्मी हस्तांतरण दक्षता को सक्षम बनाता है।
अनुकूलित थर्मल प्रदर्शन:अपेक्षाकृत कम क्वथनांक (लगभग 61 डिग्री) के साथ, एचएफई 7100 दो चरण विसर्जन प्रणालियों में असाधारण रूप से प्रभावी है। तरल पदार्थ गर्म चिप सतहों पर सीधे उबलता है, तरल से वाष्प में चरण बदलते समय बड़ी मात्रा में गर्मी को अवशोषित करता है। फिर वाष्प एक हीट एक्सचेंजर में वापस तरल में संघनित हो जाता है, जिससे एक अत्यधिक कुशल, स्वयं पंपिंग शीतलन चक्र बनता है जो पंखे और जटिल ठंडी प्लेटों की आवश्यकता को समाप्त कर देता है।
सामग्री अनुकूलता और सुरक्षा:यह धातु, प्लास्टिक और इलास्टोमर्स सहित डेटा सेंटर हार्डवेयर में पाई जाने वाली सामग्रियों की एक विस्तृत श्रृंखला के साथ संगत है। इसकी गैर-ज्वलनशील प्रकृति डेटा सेंटर की समग्र अग्नि सुरक्षा को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाती है, जो ऑपरेटरों और बीमाकर्ताओं के लिए एक महत्वपूर्ण विचार है।
पर्यावरण एवं परिचालन संबंधी लाभ:खनिज तेलों या अन्य पारंपरिक तरल पदार्थों की तुलना में, एचएफई 7100 का पर्यावरणीय प्रभाव कम है (शून्य ओडीपी, कम जीडब्ल्यूपी)। इसे साफ करना भी आसान है, अवशेष के बिना जल्दी से वाष्पित हो जाता है, और विसर्जन स्नान के न्यूनतम रखरखाव की आवश्यकता होती है, जिससे स्वामित्व की कुल लागत कम हो जाती है।
एचएफई 7100 के साथ इमर्शन कूलिंग के अनुप्रयोग और भविष्य फ़ोन:+086-592-5803997
एचएफई 7100 जैसे तरल पदार्थों का उपयोग करके डेटा सेंटर विसर्जन शीतलन अब कोई विशिष्ट प्रयोग नहीं है; यह सबसे अधिक मांग वाले कंप्यूटिंग वातावरण के लिए एक मुख्यधारा समाधान है:
उच्च -घनत्व एआई और एमएल क्लस्टर: एआई प्रशिक्षण सर्वर से तीव्र, स्थानीयकृत गर्मी का प्रबंधन।
क्रिप्टोकरेंसी माइनिंग: अधिकतम दक्षता और अपटाइम के लिए उच्च {{0}वाट क्षमता वाले ASIC और GPU माइनिंग रिग को ठंडा करना।
एज कंप्यूटिंग: कॉम्पैक्ट, अक्सर निष्क्रिय रूप से ठंडे, किनारे वाले स्थानों में शक्तिशाली गणना तैनात करना।
उच्च प्रदर्शन कंप्यूटिंग (एचपीसी): वैज्ञानिक अनुसंधान, वित्तीय मॉडलिंग और रेंडरिंग फार्म का समर्थन करना।
एचएफई 7100 बनाम 3एम नोवेक 7100
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| एचएफई 7100 बनाम 3एम नोवेक 7100 | ||
| वस्तु | एचएफई 7100 | नोवेक 7100 |
| CAS संख्या। | 163702-08-7 | 163702-08-7 |
| क्वथनांक (डिग्री) | 59 डिग्री | 61 डिग्री |
| वाष्प दबाव(25 डिग्री) | 31.97kPa | 26.93kPa |
| घनत्व(जी·एमएल-1, 25 डिग्री) | 1.51 | 1.5 |
| गतिक श्यानता (सीएसटी, 25 डिग्री) | 0.5153 | 0.6 |
| सतही तनाव (mN·m-1, 25 डिग्री) | 13.72 | 13.6 |
| ढांकता हुआ ताकत (केवी, 2.5 मिमी, 25 डिग्री) | 29.5 से अधिक या उसके बराबर | ＞25 |
| ढांकता हुआ स्थिरांक (@1MHz, 25 डिग्री) | 8.98 | 7.4 |
| फ़्लैश प्वाइंट | नहीं | नहीं |
| जीडब्ल्यूपी | 320 | 297 |
| ओ.डी.पी | 0 | 0 |
हाइड्रोफ्लोरोएथर HFE7100 फ़ैक्टरी टूर फ़ोन:+086-592-5803997
हाइड्रोफ्लोरोएथर एचएफई 7100 आपूर्तिकर्ता - कंपनी प्रोफ़ाइल फ़ोन:+086-592-5803997
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